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電鍍設備

簡要描述:v應用領域:Pillar

基礎信息

產品型號

廠商性質

代理商

更新時間

2024-10-22

瀏覽次數

322
詳細介紹

v 應用領域:PillarBumpRDLTSV等工藝

v 晶圓尺寸:150mm~300mm

v 設備配置:

? 最多3loadport

? 最多24個電鍍腔體:CuNiSn/AgAu

? 最多4個預濕腔體,4個清洗腔體

? 水平式電鍍腔體,無交叉污染

? 支持模塊化維護,提高設備正常運行時間

? 橡膠密封技術,更佳密封性能

? 陰陽極分離技術,更佳鍍液穩定性

v 工藝指標:

v 高度均勻性:WiW≤5%    WtW≤5%    RtR≤5%


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