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磁控濺射鍍膜機Sputter

簡要描述:v應用領域:巨磁電阻(GMR)、組合材料科學(CMS)、半導體、超導體、納米級器件、光子學、光伏(PV)、OLED(發光二極管)、有機薄膜v樣品尺寸:8英寸v濺射源:強磁靶、永磁靶

基礎信息

產品型號

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更新時間

2024-10-22

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詳細介紹

v 應用領域:巨磁電阻(GMR)、組合材料科學(CMS)、半導體、超導體、納米級器件、光子學、光伏(PV)、OLED(發光二極管)、有機薄膜

v 樣品尺寸:8英寸

v 濺射源:強磁靶、永磁靶,數量根據用戶定制

v 電源:直流電源、射頻電壓

v 真空系統:超高真空

v 樣品臺加熱:至1100℃

v 控制系統:全自動控制

v 進樣室:根據用戶需求定制


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